武漢某大學研究中心為了改善 TC4 表面性能, 采用KRI 考夫曼射頻離子源 RFCIP380濺射鍍制 TC4 表面 TiN 涂層, 提高鈦合金表面耐磨耐腐蝕性能, 提高高溫抗氧性能.
伯東 KRI 射頻離子源 RFICP380 技術參數:
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射頻離子源型號 |
RFICP380 |
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Discharge 陽極 |
射頻 RFICP |
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離子束流 |
>1500 mA |
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離子動能 |
100-1200 V |
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柵極直徑 |
30 cm Φ |
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離子束 |
聚焦, 平行, 散射 |
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流量 |
15-50 sccm |
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通氣 |
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
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典型壓力 |
< 0.5m Torr |
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長度 |
39 cm |
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直徑 |
59 cm |
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中和器 |
LFN 2000 |
客戶采用 KRI 考夫曼射頻離子源 RFCIP380 產生離子束不斷轟擊源極靶材和工件, 工件在離子束轟擊下迅速被加熱至高溫, 源極靶材在轟擊作用下濺射出的合金元素不斷奔向工件表面, 經沉積擴散過程形成一定厚度的涂層.
運行結果:
1. 具有沉積薄膜速度快, 厚度容易控制等特點
2. 涂層的SEM形貌觀測顯示涂層均勻, 致密, 無明顯孔洞缺陷, 涂層厚度約為10um, 過度層厚度約為3um.
3. 涂層的力學性能及磨損性能分析顯示, 涂層的臨界載荷達到81.75N, 遠遠滿足工程要求, 涂層與基體結合良好.
4. 在高溫（500℃）下, TiN的摩擦系數更穩定.
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