蘭州某研究所在研究 BCx 薄膜的結構特征、力學性能和摩擦磨損性能試驗中采用伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP140 作為濺射源, 濺射碳化硼靶和石墨靶（純度均為99.9%）,在 CrMoAl 齒輪鋼和 Si（100）表面沉積 BCx 薄膜
伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP140 技術參數:
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型號 |
RFICP140 |
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Discharge |
RFICP 射頻 |
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離子束流 |
>600 mA |
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離子動能 |
100-1200 V |
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柵極直徑 |
14 cm Φ |
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離子束 |
聚焦, 平行, 散射 |
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流量 |
5-30 sccm |
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通氣 |
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
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典型壓力 |
< 0.5m Torr |
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長度 |
24.6 cm |
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直徑 |
24.6 cm |
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中和器 |
LFN 2000 |
試驗結論:
相同的沉積時間內, BCx 薄膜的厚度隨石墨靶電流的增加逐漸增大, 硬度、彈性模量逐漸降低,微觀形貌的柱狀結構特征越來越明顯;增加石墨靶電流可以提高BCx薄膜的摩擦學性能, 當石墨靶電流為 2.4A 時, BCx 薄膜的摩擦因數穩定在 0.2 左右, 且具有**佳的耐磨性能。
KRI 離子源的**特功能實現了更好的性能, 增強的可靠性和新穎的材料工藝. KRI 離子源已經獲得了理想的薄膜和表面特性, 而這些特性在不使用 KRI 離子源技術的情況下是無法實現的.
KRI 離子源是**域公認的**導者, 已獲得許多專利. KRI 離子源已應用于許多已成為行業標準的過程中.
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