某知名品** Sputtering + E-Beam PVD 鍍膜機系統采用 HVA 真空閥門 11000, HVA 真空閥門安裝在分子泵口便于泵的檢修,同時外系統停機時不破壞系統真空, 只要對泵內部進行破真空即可.
HVA 不銹鋼真空閘閥 11000 系列標準技術規格:
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閥門材質: |
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- 閥門主體 |
304 不銹鋼 |
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- 焊接波紋管軸封 |
AM - 350 |
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閥門密封方式 |
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- 高真空 |
氟橡膠 |
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- 超高真空 |
銅墊圈 / 氟橡膠 |
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真空: |
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- 壓力范圍 |
高真空 1x10-9 mbar, 超高真空 1x10-10 mbar |
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- 漏率 |
< 2x10-9 mbar l/S |
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- 差壓關閉 |
1 bar ( 任意位置 ) |
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- 開啟前**大壓力 |
≤ 30 mbar |
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烘烤溫度（不含電磁閥）: |
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- 彈性體密封閥蓋 |
150°C |
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- 金屬密封閥蓋 |
-開啟溫度：200°C -關閉值：150°C |
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- 驅動方式 |
手動 60 °c, 氣動 60 °c |
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機制 |
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手動： |
手搖曲柄 |
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電磁閥供電電壓 |
120 VAC 50 /60 Hz |
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電磁閥可選電壓 |
24, 200, 240 VAC 50/60 Hz |
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電磁閥位置指示器,**大 |
115 VAC |
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氣動送風： |
80 psig |
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使用壽命: 100,000 啟閉次數 (具體視實際使用情況決定) |
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公稱通徑: DN 16 - 800 mm |
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E-Beam 鍍膜機設備組成: 系統主要由蒸發室, 電子槍, 進樣室 (可選) , 旋轉基片加熱臺, 工作氣路, 抽氣系統, 真空測量, 電控系統及安裝機臺等部分組成.
基片在做實驗前一般需要做鍍前預處理, 鍍前預處理的目的是為了得到干凈新鮮的金屬表面, 為**后獲得高質量鍍層作準備, 要進行脫脂, 去銹蝕, 去灰塵等工作, 也有客戶在 LOADLOCK 腔進行射頻反應清洗, 通過使用上海伯東 KRI 離子源將基片的表層打掉, 得到更光滑和均勻的表面.
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